近日有外媒报导称中国员工盗取荷兰公司阿斯麦（ASML Holding N.V）贸易秘要并泄漏给中国政府，ASML 就是此前中芯国际购置 1.2 亿美圆 EUV 光刻机的卖方，险些是中芯国际 2017 年的悉数净利润，"ASML 中国员工窃密 " 一事也获得了半导体行业的普遍存眷。

图片来自 ASML 官网

窃密事宜回忆

雷锋网相识到，音讯出自荷兰一家本地媒体（Financieele Dagblad），该媒体报导称，几名中国籍雇员从 ASML 的美国子公司盗取贸易秘要，致使 ASML 吃亏数亿美圆。

相干报导指出，这些中国籍雇员是 ASML 公司研发部员工，有接见 ASML 美国圣何塞分公司内部收集的允许权，他们应用职务之便盗取了设备的源代码、软件、公司订价战略和供内部运用的设备手册，并将信息传递给 ASML 的协作对手 XTAL 公司。

那末，XTAL 是不是真的盗取 ASML 贸易秘要了呢？最少从法院讯断来看，确切是如许。2018 年 11 月，ASML 公司以 " 盗用贸易秘要 " 为由将 XTAL 告上法庭，法院正式判决，XTAL 必须向 ASML 付出 2.33 亿美圆的补偿金，然则一个月后，XTAL 公司即请求破产。

XTAL 于 2014 年在美国硅谷竖立，虽然竖立时间比 ASML 晚了十几年，然则因为 ASML 一家独大的市场职位，客户照样愿望有几家公司同时协作，好比三星就是 XTAL 的客户，不外明显 XTAL 没能打破 ASML 的手艺加贸易壁垒。

在 4 月 11 日外交部发言人陆慷掌管的例行记者会上，有记者问到，" 荷兰某财经媒体报导称，荷兰半导体业 ASML 公司的中方高管盗取该公司贸易秘要，构成公司巨额丧失，并称这些手艺被泄漏给了中国政府。中方是不是得知此事？对此有何批评？"

陆慷答：我们注意到有关报导，但不相识你提到的具体情况。实际上，中国和荷兰在科技范畴一直保持着优越的协作。我们屡次重申，中国政府高度重视学问产权珍爱。我们一直请求外洋的中国公民和企业恪守驻在国执法。

至于中国本身，中国的科技生长一不靠偷，二不靠抢，是中国人民用本身的伶俐和汗水，辛劳斗争出来的。

ASML 总裁发声

涉及到芯片和大国干系等敏感话题，ASML 总裁兼首席执行官 Peter Wennink 也是第一时间做出回应，ASML 不同意它曾成为 " 中国特务 " 的受害者。

" 我们在某种水平上是国度诡计的受害者的谈吐是毛病的。事实是，我们被硅谷的一小部分员工‘掳掠’，他们违背执法以‘损公肥私’。一切这一切都发生在几年前。我们本身发现了这一点，并于 2016 年立即在大众法庭追求执法诉讼。在我们于 2018 年 11 月讼事成功后，在几份报导表清晰明了这一看法，"Peter Wennink 说。

ASML 官方透露表现，这些具有种种国籍的员工盗取的掩模优化软件，是 ASML 产物和效劳组合中的一小部分，目标是竖立一个协作产物并将其出售给韩国现有的 ASML 客户（应该是三星），XTAL 的资金有一部分来自韩国。如今尚不清晰 2.33 亿美圆的补偿可以或许从如今破产的 XTAL 公司收回到甚么水平。

" 我们恶感任何有关此事宜对 ASML 在中国开展营业有任何影响的发起。有些人恰好是中国公民，但其他国度的人也介入个中。我们确切郑重地珍爱我们的专有学问，而且对信息平安异常敏感。我们置信，可以或许为包孕中国客户在内的一切客户供应效劳，并资助他们竖立营业。近来欧盟与中国之间的建设性商洽和协定令中国增强尊敬和珍爱非中国公司的学问产权，包孕有用的执法行为，当我们看到这些在中国执法和审讯中获得完成时，我们对此觉得鼓励 "，温宁说。

ASML 官网资料显现，ASML 在 16 个国度的 60 多个都市设有办事处，总部位于荷兰 Veldhoven，员工凌驾 23000 名。

非 ASML 弗成？

" 消耗决议消耗 "，ASML 在半导体行业的职位就是这么弗成庖代，即便是英特尔、三星和台积电也只能等 ASML 供货。甚至在 ASML 的研发希望迟缓时，三家大厂注资数十亿美圆资助 ASML 开辟 EUV 光刻工艺及 18 英寸晶圆，可见光刻机的门坎之高。

EUV 光刻机透视图（雷锋网摘自 ASML 官网）

望文生义，光刻机就是用光来刻电路，光刻机（Mask Aligner ) 别名掩模瞄准暴光机，暴光体系，光刻体系等，经常使用的光刻机是掩膜瞄准光刻，以是叫 Mask Alignment System。一样平常的光刻工艺要阅历硅片外面洗濯烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、瞄准暴光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography（光刻） 意义是用光来制作一个图形（工艺），消耗集成电路扼要可以或许分为三步：

应用模版去除晶圆外面的珍爱膜。

将晶圆浸泡在侵蚀剂中，落空珍爱膜的部分被侵蚀掉后构成电路。

用纯水洗净残留在晶圆外面的杂质。

这个历程相似照片冲印，光芒经由镜头把风景记忆聚焦在胶片上，胶片上的感光剂随光发生变化，胶片上受光后变化了的感光剂经显影液显影和定影构成和风景相反或颜色互补的记忆。光刻集成电路的载体成了晶圆，成像变成了电路。

芯片被誉为家当石油，光刻机则被誉为半导体行业的明珠，如今 ASML 已占领行业相对统治职位，一方面是高端工艺无人能及，另一方面是市场占领率异常高，跟随厥后的尼康和佳能手艺较之相差一两代。2017 年环球光刻机总出货 294 台，ASML 出货 198 台，占领 68% 的市场份额。更高端的 EUV 光刻机方面，ASML 占领率 100%。

物以稀为贵，2017 年 ASML 单台 EUV 机均匀售价凌驾 1 亿欧元，2018 年一季度的售价更是靠近 1.2 亿欧元，但就如许照样有价无市，产能有限

EUV 光刻机中的 EUV 指的是是波长 13.5nm 的极紫外光，一般的 DUV 光刻机运用的是 193nm 的深紫外光，EUV 光刻机可以或许大幅提拔半导体工艺水平，完成 7nm 及以下工艺，更主要的，这是半导体摩尔定律能延续下去的基本，当下摩尔定律并非芯片设想的题目，纯粹是资料工艺度不达标，ASML 可以或许供应更邃密精美的设备，在家当的险些最上游。

依照英特尔的计划，EUV 光刻机正本早在 2005 年就应该投入运用，然则这明显低估了资料学的难度，EUV 波长唯一 13 纳米，光芒能量和破坏性极高，制程的一切零件、资料，样样应战工艺极限，机器行动偏差要以皮秒（兆分之一秒）计。

关于志在生长国内半导体行业的我国来讲，光刻机也是必需要打破的一环，2018 岁尾，国度严重科研设备研制项目 " 超区分光刻设备研制 "29 日经由过程验收，该光刻机由中国科学院光电手艺研究所研制，光刻区分力到达 22 纳米，连系两重暴光手艺后，将来还可用于制作 10 纳米级其余芯片。

【泉源：雷锋网】

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